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Plasma Limited
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Objetivo Rotatorio de Pulverización Catódica con 100 Magnetrones para Línea de Producción de Recubrimientos PVD en Sustratos de Acero

Sin reseñas
EUR1,53128-2,29692
Cantidad mínima de compra: 1 conjunto
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Número de modelo

Rotary Target

Características principales

Voltaje

380V

Tipo de máquina

Equipo de recubrimiento

Recubrimiento

Recubrimiento al vacio

Sustrato

Acero

Garantía

1 año

Componentes principales

Equipo

Envío

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Características clave

Sustrato
Acero
Recubrimiento
Recubrimiento al vacio
Tipo
Linea de producción de revestimiento
Voltaje
380V
Componentes principales
Equipo
Principales argumentos de venta
Fácil de operar, Larga vida de servicio, De ahorro de energía
Tipo de máquina
Equipo de recubrimiento
Garantía
1 año
Informe de prueba de maquinaria
Siempre
Inspección de salida por vídeo
Siempre
Potencia (W)
100
Lugar del origen
Shenyang.China
Peso (kg)
50
Nombre de la marca
PLASMA LIMITED
Dimensiones (L*A*A)
L7000 W3200 H2500mm
Type
cathode
Technology
PVD Rotary Target technology
Application
Used in magnetron sputtering plating machine
Power supply
Rotary Target power supply

Empaque y entrega

Unidades de venta
Artículo individual

Tiempo de entrega

Descripción de producto del proveedor

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