Sistema PECVD Avanzado para Recubrimiento de Películas Delgadas en Laboratorio, Procesamiento de Obleas de Semiconductores y Depósito de Películas Asistido por Plasma
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Atributos
1 añoGarantía
OEMSoporte personalizado
Henan, ChinaLugar del origen
MGSIMarca
Dimensión: Diámetro 300 mm * 300 m HCapacidad
Material de la cámara de vacío: acero inoxidable 304Material
Tamaño:Tamaño del soporte de muestra: 100 mm de diámetro.para.4" oblea máx.
Nombre del producto:Sistema de deposición química de vapor mejorado con plasma
Potencia de la fuente de RF:300 vatios, 13,56 megahercios
Vacío absoluto:6E-7 de sotora
Bomba Turbo:Bomba turbo Pfeiffer de 700 L/s
Bomba de respaldo:Bomba rotativa de paletas de 240 L/min (4 L/s)
Caudal:16 litros/minuto
Cumplimiento:Aprobación CE
Voltaje:Monofásico 208 - 240 VCA 50 / 60 Hz
Peso:200 kilos
Color de la piel:Blanco
Características clave
Garantía
1 año
Soporte personalizado
OEM
Lugar del origen
Henan, China
Marca
MGSI
Capacidad
Dimensión: Diámetro 300 mm * 300 m H
Material
Material de la cámara de vacío: acero inoxidable 304
Tamaño
Tamaño del soporte de muestra: 100 mm de diámetro.para.4" oblea máx.
Nombre del producto
Sistema de deposición química de vapor mejorado con plasma
Potencia de la fuente de RF
300 vatios, 13,56 megahercios
Vacío absoluto
6E-7 de sotora
Bomba Turbo
Bomba turbo Pfeiffer de 700 L/s
Bomba de respaldo
Bomba rotativa de paletas de 240 L/min (4 L/s)
Caudal
16 litros/minuto
Cumplimiento
Aprobación CE
Voltaje
Monofásico 208 - 240 VCA 50 / 60 Hz
Peso
200 kilos
Color de la piel
Blanco
Empaque y entrega
Unidades de venta
Artículo individual
Tamaño del paquete
150X120X180 cm
Peso bruto
230.000 kg
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