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Máquina de Grabado ICP Automática, Plasma de Acoplamiento Inductivo

Sin reseñas
EUR123,78156
Cantidad mínima de compra: 1 conjunto

Número de modelo

AME-ICP-601

Características principales

Voltaje

380V, 110V, 220 V

Recubrimiento

E-recubrimiento

Sustrato

SiO2 Si3N4,SiC,GaN,GaAs,ITO,AZO, etc.

Garantía

1 año

Informe de prueba de maquinaria

Siempre

Inspección de salida por vídeo

Siempre

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Servicio

Piezas de repuesto gratuitas y soporte técnico en línea
Piezas de repuesto gratuitas y soporte técnico en línea

Características clave

Sustrato
SiO2 Si3N4,SiC,GaN,GaAs,ITO,AZO, etc.
Recubrimiento
E-recubrimiento
Tipo
Inductively Coupled Plasma Etching Equipment
Voltaje
380V, 110V, 220 V
Garantía
1 año
Informe de prueba de maquinaria
Siempre
Inspección de salida por vídeo
Siempre
Potencia (W)
7000
Lugar del origen
Shandong, China
Peso (kg)
700
Nombre de la marca
AME
Dimensiones (L*A*A)
141*107*179cm
Product name
Inductively Coupled Plasma Etching Equipment
Vacuum acquisition
corrosion-resistant molecular pump system
Sample size
6 inches in diameter
Etching rate
0.1-4 μ m/min (depending on specific materials and processes
Uneven etching
± 3% - ± 5%
Workbench
40-100mm adjustable with a precision of 1mm
Standard sample cooling method
water cooling
Optional sample cooling method
He cold back blowing
Power configuration
upper electrode RF, lower electrode bias, including automatic matching
Operation mode
fully automatic mode, semi-automatic mode

Empaque y entrega

Unidades de venta
Artículo individual

Tiempo de entrega