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Tiempo de respuesta

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Objetivo de Pulverización Catódica (Sputtering) de Magnetron Plano DC para Línea de Producción de Recubrimiento al Vacío de Metales Preciosos con Sustrato de Acero

Sin reseñas

EUR3,19017-6,38034

Cantidad mínima de compra: 1 conjunto

Número de modelo

MF Targe

Características principales

Voltaje

380V

Recubrimiento

Recubrimiento al vacio

Sustrato

Acero

Garantía

1 año

Componentes principales

Equipo

Informe de prueba de maquinaria

Siempre

Envío

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4 pagos sin intereses con

Características clave

Sustrato

Acero

Recubrimiento

Recubrimiento al vacio

Tipo

Linea de producción de revestimiento

Voltaje

380V

Componentes principales

Equipo

Principales argumentos de venta

Fácil de operar, Larga vida de servicio, De ahorro de energía

Garantía

1 año

Informe de prueba de maquinaria

Siempre

Inspección de salida por vídeo

Siempre

Potencia (W)

100

Lugar del origen

Shenyang.China

Peso (kg)

50

Nombre de la marca

PLASMA LIMITED

Dimensiones (L*A*A)

L7000 W3200 H2500mm

Type

cathode

Technology

PVD Magnetron Sputtering Target technology

Application

Used in magnetron sputtering plating machine

Power supply

Magnetron Sputtering Target supply

Empaque y entrega

Unidades de venta

Artículo individual

Tiempo de entrega

Descripción de producto del proveedor

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