Mezcla de Gas Excimer de Alta Pureza para Láser ArF 193nm para Litografía de Semiconductores, Premix KrF XeCl, Cilindro CGA679 DIN8 UN1956
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Mezcla de Gas Excimer de Alta Pureza para Láser ArF 193nm para Litografía de Semiconductores, Premix KrF XeCl, Cilindro CGA679 DIN8 UN1956

Sin reseñas
EUR1,07687
Cantidad mínima de compra: 20 unidades
Tamaño
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Personalización basada en muestras
Personalización completa

Características principales

Uso

Gas industrial

Material

Acero

Presión

Alta, Bajo

Diámetro exterior

Cilindros de gas personalizados

Espesor de Pared

Cilindros de gas personalizados

Capacidad

50L, 40L, 8 L, 10L, 20 L

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Uso
Gas industrial
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Acero
Presión
Alta, Bajo
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Capacidad
50L, 40L, 8 L, 10L, 20 L
Peso
Cilindros de gas personalizados
Lugar del origen
China
Número de Modelo
ArF
Marca
newradar
color
incoloro
tóxico
no tóxico
Rango de inflamabilidad (en aire)
no inflamable
olor
sin olor
orgánico
inorgánico
Riesgos
Alta Presión y Asfixia
Pureza
99.999%

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Artículo individual

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