Objetivo de pulverización de hafnio de alta pureza - para circuitos integrados de semiconductores, componentes de embalaje avanzado y reactivadores nucleares
Puntuación de la tienda:
4.9
(64 reseñas)
Atributos
Proceso PVDUso
Hunan, ChinaLugar del origen
XKMarca
99.95% HafnioComposición Química
HafnioMaterial
Rectángulo, RedondoForma
Certificado:ISO 9001:2008
Pureza:99.95%
Nombre del producto:Objetivo de hafnio
Apariencia:Brillante
Calificación:Grado Industrial
Tamaño:personalizar
Densidad:13,31 gramos/cm3
Otro nombre:Objetivo de pulverización catódica de Hf
Características clave
Uso
Proceso PVD
Lugar del origen
Hunan, China
Marca
XK
Composición Química
99.95% Hafnio
Material
Hafnio
Forma
Rectángulo, Redondo
Certificado
ISO 9001:2008
Pureza
99.95%
Material
hafnio
Nombre del producto
Objetivo de hafnio
Apariencia
Brillante
Calificación
Grado Industrial
Uso
recubrimiento de película delgada
Tamaño
personalizar
Densidad
13,31 gramos/cm3
Otro nombre
Objetivo de pulverización catódica de Hf
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