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Horno CVD de Campo Térmico Ultraestable de Alto Vacío y Alta Temperatura para el Procesamiento de Recubrimiento de Superficies de Sustratos de Boruro de Silicio - Product Image 1

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Horno CVD de Campo Térmico Ultraestable de Alto Vacío y Alta Temperatura para el Procesamiento de Recubrimiento de Superficies de Sustratos de Boruro de Silicio

EUR 69,730.40-87,163

MOQ: 1 conjunto

Zhuzhou Nuotian Electric Heating Technology Co., Ltd.

1 yrs

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Horno de Inducción Vertical de Alta Calidad Nuotian con Soporte Giratorio para Sustratos, 150KW de Potencia, Material de Grafito, Temperatura Máxima de 2500°C - Product Image 1

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Horno de Inducción Vertical de Alta Calidad Nuotian con Soporte Giratorio para Sustratos, 150KW de Potencia, Material de Grafito, Temperatura Máxima de 2500°C

EUR 69,730.40-87,163

MOQ: 1 conjunto

Zhuzhou Nuotian Electric Heating Technology Co., Ltd.

1 yrs

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2500 ℃ Horno de Deposición Química por Vapor con Recubrimiento Cerámico de Alúmina para Calentamiento por Inducción de Alto Vacío - Product Image 1

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2500 ℃ Horno de Deposición Química por Vapor con Recubrimiento Cerámico de Alúmina para Calentamiento por Inducción de Alto Vacío

EUR 69,730.40-87,163

MOQ: 1 conjunto

Zhuzhou Nuotian Electric Heating Technology Co., Ltd.

1 yrs

CN

Horno CVD de Inducción para Deposición de Vapor con Material de Carburo de Silicio, Servicio de Personalización a Precio Competitivo, Funcionamiento Estable - Product Image 1

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Horno CVD de Inducción para Deposición de Vapor con Material de Carburo de Silicio, Servicio de Personalización a Precio Competitivo, Funcionamiento Estable

EUR 69,730.40-87,163

MOQ: 1 conjunto

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1 yrs

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Horno de Deposición de Vapor al Vacío para Tratamiento Térmico por Inducción de Materiales de Carbono a Alta Temperatura con Servicio de Instalación - Product Image 1

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Horno de Deposición de Vapor al Vacío para Tratamiento Térmico por Inducción de Materiales de Carbono a Alta Temperatura con Servicio de Instalación

EUR 69,730.40-87,163

MOQ: 1 conjunto

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1 yrs

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Horno de Deposición de Vapor al Vacío de Alta Eficiencia para Tratamiento Térmico por Inducción de Fibra de Carbono a Alta Temperatura - Product Image 1

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Horno de Deposición de Vapor al Vacío de Alta Eficiencia para Tratamiento Térmico por Inducción de Fibra de Carbono a Alta Temperatura

EUR 69,730.40-87,163

MOQ: 1 conjunto

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1 yrs

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2500 ℃ Horno CVD de Alta Temperatura y Vacío para el Crecimiento de Películas Compuestas de Material Cerámico de Alúmina - Product Image 1

2500 ℃ Horno CVD de Alta Temperatura y Vacío para el Crecimiento de Películas Compuestas de Material Cerámico de Alúmina - Product Image 2

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2500 ℃ Horno CVD de Alta Temperatura y Vacío para el Crecimiento de Películas Compuestas de Material Cerámico de Alúmina - Product Image 4

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2500 ℃ Horno CVD de Alta Temperatura y Vacío para el Crecimiento de Películas Compuestas de Material Cerámico de Alúmina

EUR 69,730.40-87,163

MOQ: 1 conjunto

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1 yrs

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Horno de Deposición Vertical por Vapor (CVD) de Alta Temperatura para Laboratorio, Material SiC, Calentamiento por Inducción, Directo de Fábrica en China - Product Image 1

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Horno de Deposición Vertical por Vapor (CVD) de Alta Temperatura para Laboratorio, Material SiC, Calentamiento por Inducción, Directo de Fábrica en China

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MOQ: 1 conjunto

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1 yrs

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