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Máquina de Grabado por Plasma para Semiconductores para Obleas de 300 mm - Product Image 1
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Máquina de Grabado por Plasma para Semiconductores para Obleas de 300 mm

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Máquina de Grabado ICP para la Fabricación de Obleas de Semiconductores

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Grabador de Plasma Seco RIE para Fabricación de Circuitos Integrados - Product Image 1
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Grabador de Plasma Seco RIE para Fabricación de Circuitos Integrados

EUR 24,702.58-26,467.05
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DRIE Etcher para el Procesamiento de Obleas MEMS

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Equipo de Grabado ICP para el Procesamiento de Obleas MEMS

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Equipo de Grabado por Plasma RIE para Laboratorio

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Equipo de Grabado RIE para Línea de Producción de Semiconductores - Product Image 1
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Equipo de Grabado RIE para Línea de Producción de Semiconductores

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Grabador ICP para Semiconductores con Cámara de Vacío

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