All categories

Featured selections

Trade Assurance

Buyer Central

Help Center

Get the app

Become a supplier

Olaso

(999+ productos disponibles)

Equipo de Grabado Profundo de Silicio por Plasma - Product Image 1

Equipo de Grabado Profundo de Silicio por Plasma - Product Image 2

Equipo de Grabado Profundo de Silicio por Plasma - Product Image 3

Equipo de Grabado Profundo de Silicio por Plasma - Product Image 4

Equipo de Grabado Profundo de Silicio por Plasma - Product Image 5

Equipo de Grabado Profundo de Silicio por Plasma - Product Image 6

Equipo de Grabado Profundo de Silicio por Plasma

EUR 24,354.74-26,094.36

MOQ: 1 conjunto

TokTrend Supply LLC

1 yrs

US

Reactor de Grabado por Plasma para la Producción de Obleas de CI - Product Image 1

Reactor de Grabado por Plasma para la Producción de Obleas de CI - Product Image 2

Reactor de Grabado por Plasma para la Producción de Obleas de CI - Product Image 3

Reactor de Grabado por Plasma para la Producción de Obleas de CI - Product Image 4

Reactor de Grabado por Plasma para la Producción de Obleas de CI - Product Image 5

Reactor de Grabado por Plasma para la Producción de Obleas de CI - Product Image 6

Reactor de Grabado por Plasma para la Producción de Obleas de CI

EUR 24,354.74-26,094.36

MOQ: 1 conjunto

1 yrs

IN

Reactor de Plasma para Grabado de Semiconductores - Product Image 1

Reactor de Plasma para Grabado de Semiconductores - Product Image 2

Reactor de Plasma para Grabado de Semiconductores - Product Image 3

Reactor de Plasma para Grabado de Semiconductores - Product Image 4

Reactor de Plasma para Grabado de Semiconductores - Product Image 5

Reactor de Plasma para Grabado de Semiconductores - Product Image 6

Reactor de Plasma para Grabado de Semiconductores

EUR 24,354.74-26,094.36

MOQ: 1 conjunto

1 yrs

IN

Equipo de Grabado por Plasma RIE para Semiconductores - Product Image 1

Equipo de Grabado por Plasma RIE para Semiconductores - Product Image 2

Equipo de Grabado por Plasma RIE para Semiconductores - Product Image 3

Equipo de Grabado por Plasma RIE para Semiconductores - Product Image 4

Equipo de Grabado por Plasma RIE para Semiconductores - Product Image 5

Equipo de Grabado por Plasma RIE para Semiconductores - Product Image 6

Equipo de Grabado por Plasma RIE para Semiconductores

EUR 24,354.74-26,094.36

MOQ: 1 conjunto

1 yrs

IN

Máquina de Grabado por Plasma para Procesamiento de Obleas - Product Image 1

Máquina de Grabado por Plasma para Procesamiento de Obleas - Product Image 2

Máquina de Grabado por Plasma para Procesamiento de Obleas - Product Image 3

Máquina de Grabado por Plasma para Procesamiento de Obleas - Product Image 4

Máquina de Grabado por Plasma para Procesamiento de Obleas - Product Image 5

Máquina de Grabado por Plasma para Procesamiento de Obleas - Product Image 6

Máquina de Grabado por Plasma para Procesamiento de Obleas

EUR 24,354.74-26,094.36

MOQ: 1 conjunto

1 yrs

IN

Sistema de Grabado por Plasma para la Fabricación de Obleas - Product Image 1

Sistema de Grabado por Plasma para la Fabricación de Obleas - Product Image 2

Sistema de Grabado por Plasma para la Fabricación de Obleas - Product Image 3

Sistema de Grabado por Plasma para la Fabricación de Obleas - Product Image 4

Sistema de Grabado por Plasma para la Fabricación de Obleas - Product Image 5

Sistema de Grabado por Plasma para la Fabricación de Obleas - Product Image 6

Sistema de Grabado por Plasma para la Fabricación de Obleas

EUR 24,354.74-26,094.36

MOQ: 1 conjunto

TokTrend Supply LLC

1 yrs

US

Máquina de Grabado por Plasma Seco para Obleas de SiC - Product Image 1

Máquina de Grabado por Plasma Seco para Obleas de SiC - Product Image 2

Máquina de Grabado por Plasma Seco para Obleas de SiC - Product Image 3

Máquina de Grabado por Plasma Seco para Obleas de SiC - Product Image 4

Máquina de Grabado por Plasma Seco para Obleas de SiC - Product Image 5

Máquina de Grabado por Plasma Seco para Obleas de SiC - Product Image 6

Máquina de Grabado por Plasma Seco para Obleas de SiC

EUR 24,354.74-26,094.36

MOQ: 1 conjunto

TokTrend Supply LLC

1 yrs

US

Equipo de Grabado por Plasma de SiC para Producción de Semiconductores - Product Image 1

Equipo de Grabado por Plasma de SiC para Producción de Semiconductores - Product Image 2

Equipo de Grabado por Plasma de SiC para Producción de Semiconductores - Product Image 3

Equipo de Grabado por Plasma de SiC para Producción de Semiconductores - Product Image 4

Equipo de Grabado por Plasma de SiC para Producción de Semiconductores - Product Image 5

Equipo de Grabado por Plasma de SiC para Producción de Semiconductores - Product Image 6

Equipo de Grabado por Plasma de SiC para Producción de Semiconductores

EUR 24,354.74-26,094.36

MOQ: 1 conjunto

TokTrend Supply LLC

1 yrs

US

Búsquedas relacionadas:

la eso fanso alasal y oso osa yalas keso alos alebrije de oso akaso 7 sojo alasxa nolas zasa aceso adelo basos adosado sopelana sofás akaso 8